Processos de revestimento por pulverização catódica com magnetron, para a deposição de filmes finos de materiais metálicos e isolantes com excelente adesão a um substrato. O plasma, magneticamente confinado, é gerado perto da superfície do material alvo, em seguida, os íons do plasma carregados positivamente impactam sobre o material alvo que está carregado negativamente fazendo com que os átomos desse material alvo sejam ejetados ou “pulverizados”, sendo então depositados na superfície do substrato. A técnica de pulverização catódica liga os átomos a um substrato, criando filmes finos, uniformes e com ótimo custo-benefício. Imagens ilustrativas: