Procesos de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón para la deposición de películas de materiales metálicos y aislantes con excelente adhesión a un sustrato. El plasma magnéticamente confinado se genera cerca de la superficie del material objetivo, entonces los iones de plasma cargados positivamente impactan en el material objetivo cargado negativamente haciendo que los átomos de este material objetivo sean expulsados o “pulverizados” y luego depositados en la superficie del sustrato. La técnica de pulverización catódica une los átomos a un sustrato, creando películas delgadas, uniformes y rentables. Imágenes ilustrativas: